解决这个矛盾的好的办法就是把抛光分为上面的阶段进行。自动抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应相对对平行并平均地轻压在抛光盘上，留意防止试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。 

粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不外也应当尽可能小；然后精抛光，其目的是去除粗抛发生的表层损伤，使抛光损伤减到小。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相发生“曳尾”现象；湿渡过小时，摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至泛起黑斑，轻合金则会抛伤表面。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向往返移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一种湿度。 自动抛光机操纵的枢纽是要想法得到大的抛光速率，以便尽快除去磨光时发生的损伤层。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。同时也要使抛光损伤层不会影响终观察到的组织，即不会造成假组织。